La capa de espray planar del indio del ultrasonido atomiza uniformemente 2000w

Descripción:

El recubrimiento por pulverización de indio plano por ultrasonido atomiza uniformemente 2000w utiliza vibración ultrasónica de alta frecuencia para atomizar, rociar o recubrir uniformemente indio fundido sobre la superficie de un sustrato plano. El dispositivo logra efectos de recubrimiento ideales ajustando los parámetros principales, como la amplitud de la boquilla, la velocidad de escaneo y el caudal de material de indio.
Las máquinas de 2000w con recubrimiento por pulverización de indio plano por ultrasonido atomizan uniformemente se utilizan principalmente en campos como paneles de pantalla plana, células solares, chips LED, etc. Al utilizar la tecnología de recubrimiento de indio ultrasónico, se obtienen capas de indio más delgadas y uniformes, lo que reduce en gran medida el uso de indio y proporciona a estos productos una capa de indio conductora y reflectante.

Parámetros:

Especificaciones técnicas y parámetros de rendimiento:

1. Eficiencia de producción:
La velocidad de recubrimiento tradicional es de 0,5 a 2 metros cuadrados por minuto, que varía según el tamaño del producto y el espesor del recubrimiento.
La capacidad de fabricación de un solo sistema puede alcanzar entre 500 y 2000 metros rectangulares por hora, lo cual es muy beneficioso para mejorar la eficiencia de fabricación.
2. Calidad del recubrimiento:
Puede obtener un espesor de recubrimiento uniforme de 0,1 a 2 μm, una distancia que se adapta mejor a los métodos de recubrimiento comunes.
La uniformidad y continuidad del recubrimiento son excelentes, satisfaciendo las necesidades de los productos digitales de alta gama.
3. Rentabilidad del equipo:
En comparación con los procesos habituales de recubrimiento químico de indio, las máquinas de recubrimiento ultrasónico de indio pueden limitar considerablemente el consumo de indio y los costos minoristas.
El coste de financiación de las herramientas en sí es alto, pero el coste de funcionamiento a largo plazo es bajo y el período de retorno de la inversión suele ser de 1 a 2 años.
La tasa de alto rendimiento puede reducir significativamente la tasa de desperdicio y la tasa de remodelación en el proceso de fabricación.
4. Otros parámetros:
Las dimensiones del sustrato que se puede procesar suelen estar entre 300 mm x 400 mm y 1200 mm x 1500 mm.
Adecuado para una serie de sustancias de sustrato como vidrio, metal, cerámica, etc.
Las herramientas ocupan poco espacio y se pueden combinar fácilmente en las líneas de fabricación actuales.

La capa de espray planar del indio del ultrasonido atomiza uniformemente 2000w