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Equipo de pulverización por dispersión ultrasónica de alta frecuencia de 120 kHz
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Equipo de pulverización por dispersión ultrasónica de alta frecuencia de 120 kHz
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Equipo de pulverización por dispersión ultrasónica de alta frecuencia de 120 kHz

Moq: 1 unidad
Precio: Negotation
Embalaje Estándar: Empaquetado por Carton
Método De Pago: T/T, unión occidental
Capacidad De Suministro: 1000 unidad por mes
Información Detallada
Descripción del Producto
Información Detallada
Lugar de origen
Porcelana
Nombre de la marca
FUNSONIC
Certificación
CE
Número de modelo
FSW-1202-L
Nombre de producción:
Atomización de boquilla ultrasónica de dispersión de 120 kHz
Frecuencia:
120 kHz
Potencia máxima:
10W
Rango de tamaño de partícula automatizado:
10-35 µm
Flujo de aerosol:
0.5 a 20 ml
Viscosidad líquida:
<10cps
Tamaño de partícula:
<5>
Solicitud:
Ampliamente aplicado en MEMS, obleas semiconductoras, pilas de combustible PEM, sensores, catéteres
Resaltar:

Equipo de pulverización ultrasónica de 120 kHz

,

Pulverización por dispersión ultrasónica de alta frecuencia

,

Máquina de recubrimiento por pulverización ultrasónica con garantía

Descripción del Producto



Descripción: 


El equipo de pulverización por dispersión ultrasónica de alta frecuencia de 120 kHz aprovecha la resonancia de alta frecuencia de 120 kHz de los transductores piezoeléctricos para atomizar suavemente el material líquido en finas gotas de tamaño micrométrico uniformemente dispersas. Con un canal de flujo de vórtice incorporado dentro de la boquilla, el gas portador forma un campo de pulverización de dispersión de gran angular giratorio, dotando al flujo de aerosol de una excelente capacidad de envoltura de flujo.

Proporciona un recubrimiento conformal, integrado y uniforme para piezas de trabajo con superficies planas, escalones, trincheras, paredes laterales, superficies curvas y otras microestructuras 3D diversas. Aborda una limitación industrial de larga data de las boquillas ultrasónicas enfocadas convencionales: baja humectación en las paredes laterales y espesor de película desigual en sustratos con topografía compleja.El sistema completo integra una unidad de alimentación de micro-líquido de precisión, un sistema de regulación de presión de gas portador y una plataforma de movimiento de tres ejes XYZ, con un módulo de control de temperatura opcional. La pulverización presenta una energía cinética suave sin impacto de alta presión, lo que protege de manera confiable los sustratos de precisión delicados. Reduce drásticamente el exceso de pulverización y las salpicaduras de lodo, logrando una utilización de material mucho mayor que la pulverización tradicional de dos fluidos. La boquilla cuenta con un rendimiento superior anti-obstrucción y menores costos de operación y mantenimiento a largo plazo.El espesor del recubrimiento se puede ajustar con precisión desde decenas de nanómetros hasta decenas de micrones, lo que proporciona una uniformidad de película excepcional. Compatible con soluciones de baja viscosidad y nano-suspensiones, se aplica ampliamente en MEAs de celdas de combustible, obleas de semiconductores, dispositivos MEMS, elementos sensores, catéteres de globo médicos, películas delgadas ópticas, recubrimientos aislantes electrónicos y más. Satisface las demandas de fabricación de películas ultrafinas, desde I+D de vanguardia hasta producción a escala piloto.

Parámetros: 

Modelo



FSW-1202-L


Nombre Atomización de boquilla ultrasónica de dispersión de 120 kHz
Frecuencia 120 kHz
Rango de tamaño de partícula atomizada (μm) 10-35
Ancho de pulverización (mm) 40-80
Flujo de pulverización (ml/min) 0.5-20
Altura de pulverización (mm) 30-80
Viscosidad del líquido (cps) <10
Tamaño de partícula (μm) <5
Presión de derivación (Mpa) <0.05
Aplicación ampliamente aplicado en MEMS, obleas de semiconductores, celdas de combustible PEM, sensores, catéteres de globo médicos y películas delgadas ópticas
Ventajas principales: ✅ La atomización de alta frecuencia de 120 kHz genera gotas con tamaño de partícula uniforme, equilibrando la calidad de atomización fina y la eficiencia de pulverización



✅ La pulverización de dispersión de gran angular con vórtice permite un recubrimiento conformal en trincheras 3D, escalones, superficies curvas y paredes laterales


✅ El rociado suave de baja cinética protege los sustratos de precisión frágiles y suprime eficazmente la aglomeración de lodo

✅ Control de espesor de película a nanoescala con rendimiento de recubrimiento estable y consistente

✅ Alta utilización de materia prima que reduce el desperdicio de líquido; la boquilla resiste la obstrucción para un fácil mantenimiento

✅ Arquitectura integrada modular, ampliable con etapas de calentamiento, portabrocas de vacío y plataformas de movimiento totalmente automáticas

Equipo de pulverización por dispersión ultrasónica de alta frecuencia de 120 kHz





Equipo de pulverización por dispersión ultrasónica de alta frecuencia de 120 kHz

Equipo de pulverización por dispersión ultrasónica de alta frecuencia de 120 kHz

Las etiquetas: 

Máquina de pulverización médica de polímeros contra la restenosis,  

Tipo de sonda de ultrasonido Boquilla 40Khz,  

Nozla de pulverización de gran área por ultrasonidos

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transductor piezoeléctrico ultrasónico

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Equipo de pulverización por dispersión ultrasónica de alta frecuencia de 120 kHz
Moq: 1 unidad
Precio: Negotation
Embalaje Estándar: Empaquetado por Carton
Método De Pago: T/T, unión occidental
Capacidad De Suministro: 1000 unidad por mes
Información Detallada
Descripción del Producto
Información Detallada
Lugar de origen
Porcelana
Nombre de la marca
FUNSONIC
Certificación
CE
Número de modelo
FSW-1202-L
Nombre de producción:
Atomización de boquilla ultrasónica de dispersión de 120 kHz
Frecuencia:
120 kHz
Potencia máxima:
10W
Rango de tamaño de partícula automatizado:
10-35 µm
Flujo de aerosol:
0.5 a 20 ml
Viscosidad líquida:
<10cps
Tamaño de partícula:
<5>
Solicitud:
Ampliamente aplicado en MEMS, obleas semiconductoras, pilas de combustible PEM, sensores, catéteres
Cantidad de orden mínima:
1 unidad
Precio:
Negotation
Detalles de empaquetado:
Empaquetado por Carton
Condiciones de pago:
T/T, unión occidental
Capacidad de la fuente:
1000 unidad por mes
Resaltar

Equipo de pulverización ultrasónica de 120 kHz

,

Pulverización por dispersión ultrasónica de alta frecuencia

,

Máquina de recubrimiento por pulverización ultrasónica con garantía

Descripción del Producto



Descripción: 


El equipo de pulverización por dispersión ultrasónica de alta frecuencia de 120 kHz aprovecha la resonancia de alta frecuencia de 120 kHz de los transductores piezoeléctricos para atomizar suavemente el material líquido en finas gotas de tamaño micrométrico uniformemente dispersas. Con un canal de flujo de vórtice incorporado dentro de la boquilla, el gas portador forma un campo de pulverización de dispersión de gran angular giratorio, dotando al flujo de aerosol de una excelente capacidad de envoltura de flujo.

Proporciona un recubrimiento conformal, integrado y uniforme para piezas de trabajo con superficies planas, escalones, trincheras, paredes laterales, superficies curvas y otras microestructuras 3D diversas. Aborda una limitación industrial de larga data de las boquillas ultrasónicas enfocadas convencionales: baja humectación en las paredes laterales y espesor de película desigual en sustratos con topografía compleja.El sistema completo integra una unidad de alimentación de micro-líquido de precisión, un sistema de regulación de presión de gas portador y una plataforma de movimiento de tres ejes XYZ, con un módulo de control de temperatura opcional. La pulverización presenta una energía cinética suave sin impacto de alta presión, lo que protege de manera confiable los sustratos de precisión delicados. Reduce drásticamente el exceso de pulverización y las salpicaduras de lodo, logrando una utilización de material mucho mayor que la pulverización tradicional de dos fluidos. La boquilla cuenta con un rendimiento superior anti-obstrucción y menores costos de operación y mantenimiento a largo plazo.El espesor del recubrimiento se puede ajustar con precisión desde decenas de nanómetros hasta decenas de micrones, lo que proporciona una uniformidad de película excepcional. Compatible con soluciones de baja viscosidad y nano-suspensiones, se aplica ampliamente en MEAs de celdas de combustible, obleas de semiconductores, dispositivos MEMS, elementos sensores, catéteres de globo médicos, películas delgadas ópticas, recubrimientos aislantes electrónicos y más. Satisface las demandas de fabricación de películas ultrafinas, desde I+D de vanguardia hasta producción a escala piloto.

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Ancho de pulverización (mm) 40-80
Flujo de pulverización (ml/min) 0.5-20
Altura de pulverización (mm) 30-80
Viscosidad del líquido (cps) <10
Tamaño de partícula (μm) <5
Presión de derivación (Mpa) <0.05
Aplicación ampliamente aplicado en MEMS, obleas de semiconductores, celdas de combustible PEM, sensores, catéteres de globo médicos y películas delgadas ópticas
Ventajas principales: ✅ La atomización de alta frecuencia de 120 kHz genera gotas con tamaño de partícula uniforme, equilibrando la calidad de atomización fina y la eficiencia de pulverización



✅ La pulverización de dispersión de gran angular con vórtice permite un recubrimiento conformal en trincheras 3D, escalones, superficies curvas y paredes laterales


✅ El rociado suave de baja cinética protege los sustratos de precisión frágiles y suprime eficazmente la aglomeración de lodo

✅ Control de espesor de película a nanoescala con rendimiento de recubrimiento estable y consistente

✅ Alta utilización de materia prima que reduce el desperdicio de líquido; la boquilla resiste la obstrucción para un fácil mantenimiento

✅ Arquitectura integrada modular, ampliable con etapas de calentamiento, portabrocas de vacío y plataformas de movimiento totalmente automáticas

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Tipo de sonda de ultrasonido Boquilla 40Khz,

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