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Sistema de recubrimiento de litografía por ultrasonidos fotoresistentes de semiconductores

Sistema de recubrimiento de litografía por ultrasonidos fotoresistentes de semiconductores

MOQ: 1 Unidad
Precio: Negotation
Standard Packaging: embalado por el caso de madera
Payment Method: T/T, Western Union
Supply Capacity: Unidad 1000 por mes
Información Detallada
Lugar de origen
China.
Nombre de la marca
FUNSONIC
Certificación
CE
Número de modelo
Las condiciones de los productos
Nombre de la producción:
Máquina de pulverización de precisión por ultrasonidos
Frecuencia:
60 kHz
Potencia máxima:
1 a 15 W
Volumen máximo de pulverización continua:
20-1200 ml/h/pcs, Escalable
Ancho de pulverización efectivo:
2-260 mm/pcs, escalable
Uniformidad de los aerosoles:
≥95%
Viscosidad de la solución:
≤ 30 cps
Válvula de entrada:
Las emisiones de gases de efecto invernadero de la Unión son las siguientes:
Resaltar:

Sistema de recubrimiento por litografía ultrasónica

,

Sistema de recubrimiento de litografía por ultrasonido fotorresistente

,

sistema de recubrimiento de litografía por ultrasonidos de semiconductores

Product Description

Sistema de recubrimiento de litografía por ultrasonidos fotoresistentes de semiconductores


 
Descripción:


La fumigación ultrasónica es un proceso simple, económico y reproducible para el recubrimiento fotoresistente en el procesamiento de obleas de fotolitografía.El sistema de recubrimiento de litografía ultrasónica fotorresistente de semiconductores de FUNSONIC utiliza tecnología avanzada de capas para controlar con precisión el caudalEl moldeado por pulverización a baja velocidad define el pulverización atomizada como un patrón preciso y controlable para evitar el exceso de pulverización y producir capas muy finas y uniformes.
El sistema de recubrimiento de litografía ultrasónica fotoresistente de semiconductores de FUNSONIC tiene ventajas en el depósito de recubrimientos más uniformes.especialmente a lo largo de la parte superior de las paredes laterales de ranuras de alta relación de aspecto y estructuras de ranuras en forma de VLa rotación centrífuga no puede depositar revestimientos uniformes a lo largo de las paredes laterales, sin acumular demasiada fotoresistencia en el fondo de la cavidad.

 
 
Parámetros:

 

Tipo de producto

Máquina de recubrimiento por rociado de precisión ultrasónica Tipo de escritorio de laboratorio

Las condiciones de funcionamiento

Máquina de recubrimiento de precisión por ultrasonidos inteligente Tipo de escritorio

Las demás:

Frecuencia de funcionamiento de la boquilla de rociado 20 a 200 kHz 20-200KHz (Normalmente se utiliza 60100110120K)
Potencia de la boquilla 1 a 15 W 1 a 15 W
Volumen máximo de pulverización continua 00,01 a 50 ml/min 00,01 a 50 ml/min
Ancho de pulverización efectivo 2 a 100 mm 2 a 100 mm
Uniformidad de los aerosoles ≥95% ≥95%
Tasa de conversión de la solución ≥95% ≥95%
espesor de la película seca 20 nm-100 μm 20 nm-100 μm
Viscosidad de la solución ≤ 30 cps ≤ 30 cps
Rango de temperatura 1-60°C 1-60°C
Las partículas atomizadas (valor medio) 10-45μm (agua destilada), determinada por la frecuencia de la boquilla 10-45μm (agua destilada), determinada por la frecuencia de la boquilla
Presión de desvío máxima No más de 0,10 MPA ≤ 0,15 MPA
Válvula de entrada Las emisiones de gases de efecto invernadero de los gases de efecto invernadero de los gases de efecto invernadero Las emisiones de gases de efecto invernadero de los gases de efecto invernadero de los gases de efecto invernadero
Modo de ejercicio X + Y dos ejes totalmente automático, ajuste manual del eje Z XYZ de tres ejes, programable de forma independiente
Modo de control Tarjeta de microordenador, pantalla táctil de 7 pulgadas + botones Sistema de control de pulverización FUNSONIC, control PLC, pantalla táctil a todo color de 13,3 pulgadas
Contenido del control Pulverización ultrasónica, suministro de líquidos, calefacción, dispersión ultrasónica y otros sistemas Pulverización ultrasónica, suministro de líquidos, calefacción, dispersión ultrasónica y otros sistemas
Método de suministro de líquido Bomba de inyección de precisión Bomba de inyección de precisión
Sistema de dispersión ultrasónica (opcional) 50 ml, 40K, muestreo de grado biológico 20 ml o 50 ml, 40K, muestreo de grado biológico
Potencia nominal del sistema de dispersión ultrasónica 200 W, 10 A 100 W


 

Ventajas:

 

1. Cobertura uniforme de la película de los diversos contornos de la superficie.
2. Capaz de revestir ranuras de alta relación de aspecto con una excelente uniformidad.
3Espray de atomización no obstruyente.
4Capaz de depositar capas muy uniformes de una sola micra.
5Proceso de pulverización de madurez repetible.


   Sistema de recubrimiento de litografía por ultrasonidos fotoresistentes de semiconductores 0

Sistema de recubrimiento de litografía por ultrasonidos fotoresistentes de semiconductores 1

 

Sistema de recubrimiento de litografía por ultrasonidos fotoresistentes de semiconductores 2

 


 

 

 


 

 

 

 


 

 

 

Sistema de recubrimiento de litografía por ultrasonidos fotoresistentes de semiconductores

 

Sistema de recubrimiento de litografía por ultrasonidos fotoresistentes de semiconductores 3

Sistema de recubrimiento de litografía por ultrasonidos fotoresistentes de semiconductores 4

 

 

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Sistema de recubrimiento de litografía por ultrasonidos fotoresistentes de semiconductores
MOQ: 1 Unidad
Precio: Negotation
Standard Packaging: embalado por el caso de madera
Payment Method: T/T, Western Union
Supply Capacity: Unidad 1000 por mes
Información Detallada
Lugar de origen
China.
Nombre de la marca
FUNSONIC
Certificación
CE
Número de modelo
Las condiciones de los productos
Nombre de la producción:
Máquina de pulverización de precisión por ultrasonidos
Frecuencia:
60 kHz
Potencia máxima:
1 a 15 W
Volumen máximo de pulverización continua:
20-1200 ml/h/pcs, Escalable
Ancho de pulverización efectivo:
2-260 mm/pcs, escalable
Uniformidad de los aerosoles:
≥95%
Viscosidad de la solución:
≤ 30 cps
Válvula de entrada:
Las emisiones de gases de efecto invernadero de la Unión son las siguientes:
Cantidad de orden mínima:
1 Unidad
Precio:
Negotation
Detalles de empaquetado:
embalado por el caso de madera
Condiciones de pago:
T/T, Western Union
Capacidad de la fuente:
Unidad 1000 por mes
Resaltar

Sistema de recubrimiento por litografía ultrasónica

,

Sistema de recubrimiento de litografía por ultrasonido fotorresistente

,

sistema de recubrimiento de litografía por ultrasonidos de semiconductores

Product Description

Sistema de recubrimiento de litografía por ultrasonidos fotoresistentes de semiconductores


 
Descripción:


La fumigación ultrasónica es un proceso simple, económico y reproducible para el recubrimiento fotoresistente en el procesamiento de obleas de fotolitografía.El sistema de recubrimiento de litografía ultrasónica fotorresistente de semiconductores de FUNSONIC utiliza tecnología avanzada de capas para controlar con precisión el caudalEl moldeado por pulverización a baja velocidad define el pulverización atomizada como un patrón preciso y controlable para evitar el exceso de pulverización y producir capas muy finas y uniformes.
El sistema de recubrimiento de litografía ultrasónica fotoresistente de semiconductores de FUNSONIC tiene ventajas en el depósito de recubrimientos más uniformes.especialmente a lo largo de la parte superior de las paredes laterales de ranuras de alta relación de aspecto y estructuras de ranuras en forma de VLa rotación centrífuga no puede depositar revestimientos uniformes a lo largo de las paredes laterales, sin acumular demasiada fotoresistencia en el fondo de la cavidad.

 
 
Parámetros:

 

Tipo de producto

Máquina de recubrimiento por rociado de precisión ultrasónica Tipo de escritorio de laboratorio

Las condiciones de funcionamiento

Máquina de recubrimiento de precisión por ultrasonidos inteligente Tipo de escritorio

Las demás:

Frecuencia de funcionamiento de la boquilla de rociado 20 a 200 kHz 20-200KHz (Normalmente se utiliza 60100110120K)
Potencia de la boquilla 1 a 15 W 1 a 15 W
Volumen máximo de pulverización continua 00,01 a 50 ml/min 00,01 a 50 ml/min
Ancho de pulverización efectivo 2 a 100 mm 2 a 100 mm
Uniformidad de los aerosoles ≥95% ≥95%
Tasa de conversión de la solución ≥95% ≥95%
espesor de la película seca 20 nm-100 μm 20 nm-100 μm
Viscosidad de la solución ≤ 30 cps ≤ 30 cps
Rango de temperatura 1-60°C 1-60°C
Las partículas atomizadas (valor medio) 10-45μm (agua destilada), determinada por la frecuencia de la boquilla 10-45μm (agua destilada), determinada por la frecuencia de la boquilla
Presión de desvío máxima No más de 0,10 MPA ≤ 0,15 MPA
Válvula de entrada Las emisiones de gases de efecto invernadero de los gases de efecto invernadero de los gases de efecto invernadero Las emisiones de gases de efecto invernadero de los gases de efecto invernadero de los gases de efecto invernadero
Modo de ejercicio X + Y dos ejes totalmente automático, ajuste manual del eje Z XYZ de tres ejes, programable de forma independiente
Modo de control Tarjeta de microordenador, pantalla táctil de 7 pulgadas + botones Sistema de control de pulverización FUNSONIC, control PLC, pantalla táctil a todo color de 13,3 pulgadas
Contenido del control Pulverización ultrasónica, suministro de líquidos, calefacción, dispersión ultrasónica y otros sistemas Pulverización ultrasónica, suministro de líquidos, calefacción, dispersión ultrasónica y otros sistemas
Método de suministro de líquido Bomba de inyección de precisión Bomba de inyección de precisión
Sistema de dispersión ultrasónica (opcional) 50 ml, 40K, muestreo de grado biológico 20 ml o 50 ml, 40K, muestreo de grado biológico
Potencia nominal del sistema de dispersión ultrasónica 200 W, 10 A 100 W


 

Ventajas:

 

1. Cobertura uniforme de la película de los diversos contornos de la superficie.
2. Capaz de revestir ranuras de alta relación de aspecto con una excelente uniformidad.
3Espray de atomización no obstruyente.
4Capaz de depositar capas muy uniformes de una sola micra.
5Proceso de pulverización de madurez repetible.


   Sistema de recubrimiento de litografía por ultrasonidos fotoresistentes de semiconductores 0

Sistema de recubrimiento de litografía por ultrasonidos fotoresistentes de semiconductores 1

 

Sistema de recubrimiento de litografía por ultrasonidos fotoresistentes de semiconductores 2

 


 

 

 


 

 

 

 


 

 

 

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